
Classification of different post-hyperdoping treatments for enhanced crystallinity of IR-sensitive femtosecond-laser processed silicon
Aufsatz

Schlagworte
crystallinity
hyperdoping
sub-bandgap
femtosecond laser
annealing
etching
hyperdoping
sub-bandgap
femtosecond laser
annealing
etching
DDC-Klassifikation
530 Physik
Erschienen in
Semiconductor science and technology. IOP Publ.; Bristol (2023). 38, 024002, 11 Seiten. eISSN: 1361-6641, DOI: 10.1088/1361-6641/acad93
Projektförderung
/ DFG / 429413061
/ BMBF / 03INT701AA
/ BMBF / 03INT701AA
Einrichtung
Fachbereich Ingenieurwesen
Institut für Mikrosystemtechnik (IMtech)
Institut für Mikrosystemtechnik (IMtech)
Link zur Veröffentlichung
Sammlungen
- Publikationen [130]
BibTeX
@article{Paulus2023,
author={Paulus, Simon and Roser, Michael and Mc Kearney, Patrick and Will, Matthias and Schäfer, Sören and Kontermann, Stefan},
title={Classification of different post-hyperdoping treatments for enhanced crystallinity of IR-sensitive femtosecond-laser processed silicon},
journal={Semiconductor science and technology},
volume={38},
pages={11 Seiten},
month={01},
year={2023},
publisher={IOP Publ.; Bristol},
school={Hochschule RheinMain, Wiesbaden},
url={https://hlbrm.pur.hebis.de/xmlui/handle/123456789/98},
doi={10.25716/pur-76}
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