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dc.contributor.authorPaulus, Simon
dc.contributor.authorRoser, Michael
dc.contributor.authorMc Kearney, Patrick
dc.contributor.authorWill, Matthias
dc.contributor.authorSchäfer, Sören
dc.contributor.authorKontermann, Stefan
dc.contributor.otherFachbereich Ingenieurwesen
dc.contributor.otherInstitut für Mikrosystemtechnik (IMtech)
dc.date.accessioned2023-03-09T10:11:09Z
dc.date.available2023-03-09T10:11:09Z
dc.date.issued2023-01-13
dc.identifier.urihttps://hlbrm.pur.hebis.de/xmlui/handle/123456789/98
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.25716/pur-76
dc.format.extent11 Seiten
dc.language.isoen
dc.publisherIOP Publ.; Bristol
dc.relation.ispartofSemiconductor science and technology
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.subjectcrystallinity
dc.subjecthyperdoping
dc.subjectsub-bandgap
dc.subjectfemtosecond laser
dc.subjectannealing
dc.subjectetching
dc.subject.ddc500 Naturwissenschaften::530 Physik
dc.titleClassification of different post-hyperdoping treatments for enhanced crystallinity of IR-sensitive femtosecond-laser processed silicon
dc.typeAufsatz
dcterms.accessRightsopen access
pur.source.volume38
dc.description.versionPublished Version
dc.identifier.eissn1361-6641
pur.source.articlenumber024002
pur.source.date2023
dc.identifier.doi10.1088/1361-6641/acad93
dc.identifier.urlhttps://doi.org/10.1088/1361-6641/acad93
pur.fundingProject/ DFG / 429413061
pur.fundingProject/ BMBF / 03INT701AA


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